研究設備
主要研究設備(クリックすると詳細説明)
300 kV 超高分解能透過電子顕微鏡
(300 kV – HRTEM)
(300 kV High Resolution Transmission Electron Microscope)
300 kV 超高分解能透過電子顕微鏡
(300 kV – HRTEM)
(300 kV High Resolution Transmission Electron Microscope)
200 kV 分析透過電子顕微鏡
(200 kV – ATEM)
(200 kV Analytical Transmission Electron Microscope ; ATEM)
200 kV 分析透過電子顕微鏡
(200 kV – ATEM)
(200 kV Analytical Transmission Electron Microscope ; ATEM)
100 kV 透過電子顕微鏡
(100 kV - CTEM)
(100 kV Transmission Electron Microscope)
100 kV 透過電子顕微鏡
(100 kV - CTEM)
(100 kV Transmission Electron Microscope)
電子線マイクロプローブアナライザー
(エネルギーおよび波長分散型分光分析システム装備 走査電子顕微鏡)
(EPMA: Electron Probe Micro Analyser , Scanning Electron Microscope with Both Energy- and Wavelength-Dispersive Spectroscopy System)
電子線マイクロプローブアナライザー
(エネルギーおよび波長分散型分光分析システム装備 走査電子顕微鏡)
(EPMA: Electron Probe Micro Analyser , Scanning Electron Microscope with Both Energy- and Wavelength-Dispersive Spectroscopy System)
示差走査熱量測定(DSC)装置、 熱重量測定(TG)& 示差熱分析(DTA)装置
(Differential Scanning Calorimeter, Thermo Gravimetry & Differential Thermal Analyzer)
示差走査熱量測定(DSC)装置、 熱重量測定(TG)& 示差熱分析(DTA)装置
(Differential Scanning Calorimeter, Thermo Gravimetry & Differential Thermal Analyzer)
電気抵抗測定装置
(Electrical Resistivity Measurement System)
電気抵抗測定装置
(Electrical Resistivity Measurement System)
高周波マグネトロンスパッタリング装置
(RF – Magnetron Sputtering System)
高周波マグネトロンスパッタリング装置
(RF – Magnetron Sputtering System)



















